Huawei desafía el bloqueo tecnológico con una patente para fabricar chips de 2 nm sin litografía EUV
Huawei ha presentado una patente que describe un método para fabricar chips avanzados de hasta 2 nanómetros sin utilizar litografía ultravioleta extrema (EUV), una tecnología clave dominada por empresas occidentales y actualmente vetada para China. El desarrollo se apoya en la técnica SAQP y refuerza la estrategia china de autosuficiencia en semiconductores, en un contexto […]